Η διαδικασία κατασκευής της οθόνης αφής είναι παρόμοια με τη διαδικασία κατασκευής της οθόνης υγρού κρυστάλλου σε πολλά σημεία. Και στις δύο περιπτώσεις, σχηματίζονται διαφανή ηλεκτρόδια σε δύο αντίθετα υποστρώματα και στη συνέχεια τα λειτουργικά υλικά εκτυπώνονται στα διαφανή ηλεκτρόδια για να σχηματίσουν ένα μοτίβο και στη συνέχεια τα ανώτερα και κατώτερα υποστρώματα συνδέονται μεταξύ τους και μεταφέρονται στην τελική διαδικασία.
Οι περισσότεροι κατασκευαστές οθόνης αφής αγοράζουν απευθείας τα υποστρώματα με διαφανή ηλεκτρόδια που σχηματίζονται και τα εφαρμόζουν στη διαδικασία κατασκευής της εταιρείας. Τα κατώτερα γυάλινα υποστρώματα που επενδύονται είναι κυρίως τα πάνελ απεικόνισης υγρών κρυστάλλων δεύτερης γενιάς με μέγεθος 370_ x 470mm ή 400mm x 500mm. το ανώτερο υπόστρωμα ταινιών αγοράζει άμεσα την ταινία ρολού 650mm ή 1000mm, κατόπιν το κόβει σύμφωνα με το κατάλληλο μέγεθος και το βάζει στην επόμενη διαδικασία κατασκευής.
Η διαφανής μέθοδος κατασκευής μοτίβων ηλεκτροδίων είναι διαφορετική από εκείνη της οθόνης υγρών κρυστάλλων. Οι επιτροπές επίδειξης υγρών κρυστάλλων χρησιμοποιούν τη φωτολιθογραφία για να διαμορφώσουν τα διαφανή πρότυπα ηλεκτροδίων, τα οποία απαιτούν τα υλικά ρητίνης με την καλή φωτοευαισθησία και τον ακριβό εξοπλισμό έκθεσης και ανάπτυξης. Υπάρχουν κυρίως οι ακόλουθες μέθοδοι για την κατασκευή διαφανών ηλεκτροδίων σε οθόνες αφής.
(1) Εκτυπώστε το φωτοευαίσθητη ύλη στη θέση του διαφανούς ηλεκτροδίου του προϊόντος και χρησιμοποιήστε το ως μάσκα για να χαράξετε το περιττό μέρος του διαφανούς ηλεκτροδίου.
(2) Η μονωτική ταινία εκτυπώνεται όταν δεν χρειάζονται διαφανή ηλεκτρόδια.
(3) σχεδιάστε και κάνετε τα διαφανή ηλεκτρόδια με το λέιζερ.
Σε σύγκριση με την οθόνη LCD, το μοτίβο του διαφανούς ηλεκτροδίου της οθόνης αφής είναι πολύ απλό. Δεδομένου ότι δεν απαιτούνται ακριβές διαδικασίες φωτολιθογραφίας, διάφοροι κατασκευαστές επιλέγουν μεθόδους κατασκευής χαμηλού κόστους όσο το δυνατόν περισσότερο για να σχηματίσουν διαφανή ηλεκτρόδια εικονοστοιχείων. Στο παρελθόν, χρησιμοποιήθηκαν κυρίως μέθοδοι (1), μέθοδος (2) ή η χρήση φωτός για την παρασκευή διαφανών ηλεκτροδίων εικονοστοιχείων. Πρόσφατα, οι μέθοδοι χρήσης επεξεργασίας λέιζερ για τη δημιουργία διαφανών ηλεκτροδίων έχουν σταδιακά αυξηθεί.
Αν και ο εξοπλισμός επεξεργασίας λέιζερ δεν είναι φθηνός, απαιτεί λιγότερο χώρο. Επιπλέον, η μέθοδος επεξεργασίας λέιζερ πραγματοποιείται με ξηρή διαδικασία, δεν απαιτείται υγρή διαδικασία χάραξης και παραλείπεται η επεξεργασία υγρών αποβλήτων, η οποία είναι πολύ αποτελεσματική για την επεξεργασία λεπτών μεμβρανών ITO. Ο αντιπροσωπευτικός κατασκευαστής εξοπλισμού της είναι η Ultech.
Μετά τη δημιουργία του διαφανούς μοτίβου ηλεκτροδίων εικονοκυττάρου, εκτυπώνεται ασημένια κόλλα σε κάθε υπόστρωμα και στη συνέχεια ένας κυκλικός αποστάτης τίθεται στη μία πλευρά του υποστρώματος και στη συνέχεια τα δύο υποστρώματα συνδέονται μεταξύ τους. Η μέθοδος συγκόλλησης των δύο υποστρωμάτων είναι η ίδια με εκείνη του πίνακα απεικόνισης υγρών κρυστάλλων. Μερικοί πρώτα τυπώνουν το στεγανωτικό πλαίσιο, και στη συνέχεια χρησιμοποιούν θέρμανση ή υπεριώδη ακτινοβολία για να θεραπεύσουν το στεγανωτικό πλαίσιο, και μερικοί χρησιμοποιούν κόλλες διπλής όψης και άλλες κόλλες για συγκόλληση.
Μετά την ολοκλήρωση της συγκόλλησης των δύο υποστρωμάτων, το FPC στη συνέχεια συνδέεται έντονα. Η οθόνη υγρού κρυστάλλου τοποθετείται σε στρώματα σε κατάσταση του λεγόμενου γυαλιού molher. Ωστόσο, το TP συχνά έχει μέγεθος πρώτα και στη συνέχεια συνδέεται με τον πίνακα του καθορισμένου μεγέθους.
χωρητική οθόνη αφής (τύπος προβολής), χρησιμοποιείται μόνο ένα γυάλινο υπόστρωμα. Η διαφορά από τη διαδικασία της ανθεκτικής οθόνης αφής είναι ότι η διαδικασία επικάλυψης και μοτίβου επαναλαμβάνεται σε ένα γυάλινο υπόστρωμα. Αυτή είναι η τεχνική εστίαση της χωρητικής διαδικασίας κατασκευής οθόνης αφής.
